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光刻机（Mask Aligner）又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。光刻机是制造芯片的核心装备。
光刻机一般根据操作的简便性分为三种，手动、半自动、全自动
A、手动：指的是对准的调节方式，是通过手调旋钮改变它的X轴，Y轴和thita角度来完成对准，对准精度可想而知不高了；
B、半自动：指的是对准可以通过电动轴根据CCD的进行定位调谐；
C、自动： 指的是 从基板的上载下载，曝光时长和循环都是通过程序控制，自动光刻机主要是满足工厂对于处理量的需要。
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