昨天发布了设备电源、离子源的供应商数据，我正考虑接下来发布什么数据时，就有我知识星球的会员私信向我要CVD设备的供应商数据
好吧，那我就整理发布一下吧，顺便把ALD的也一并发布了
之前看到过网上流传的外媒整理的各类半导体设备国产替代难度的分布图，当时我就有个冲动，就按照这个图里的信息把每个种类设备的全球供应商都梳理一遍
不过，这个原作者似乎也不是特别专业。在图里把所有的CVD设备都归为一类，而且有些想当然地把替代难度设置得非常低 ...
事实上，CVD也就是化学气相淀积（Chemical Vapor Deposition）的技术路径非常多，而且各自的应用领域和技术门槛都完全不一样。归到一类有些太莽撞了
我的数据表格里把CVD做了相对细致的分类，当然也不能说非常全面。下面是各种CVD/ALD技术种类的中英文名称表。大家可以参考一下：
化学气相淀积 CVD Chemical Vapor Deposition
常压CVD APCVD Atmospheric pressure CVD
准常压CVD SACVD Sub-atmospheric CVD
低压CVD LPCVD Low Pressure CVD
超低压CVD UHVCVD Ultra-High Vacuum CVD
等离子增强CVD PECVD Plasma Enhanced CVD
高密度等离子CVD HDPCVD High-density Plasma CVD
金属有机CVD MOCVD Metalorganic CVD
等离子辅助MOCVD PA-MOCVD Plasma Activated Metalorganic CVD
混合物理化学气相沉积 HPCVD Hybrid Physical–chemical Vapor Deposition
快速热处理CVD RTCVD Rapid Thermal CVD
激光CVD LCVD Laser CVD
直接液体注入CVD/ALD DLI-CVD/ALD Direct Liquid Injection CVD/ALD
FCVD Flowable CVD
原子层沉积 ALD Atomic-layer Deposition
按照我目前整理的分类，我收集到了全球88家供应商的产品数据，供大家参考
注）这个只是半导体领域的供应商名单。其它工业领域也会用到CVD、ALD设备，但这些就不在我的统计范围内了
大家参考一下，有问题欢迎和我交流
我把前道晶圆制造设备分成了11个大类（光刻、涂胶显影、CVD、PVD、其它成膜、离子注入、热处理、干法、湿法、CMP、检测量测）。每一个大类我都已经按照上表的形式做了更细致分类。总共收集全球366家供应商，都按照细致产品分类打了标签
整张表格完全展开后的截图如下（每一种颜色代表一大类设备）。图实在太大了， 所以缩小图根本看不清楚 ...
上图左侧箭头所指红框内的分类标签放大后如下：
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